優(yōu)可發(fā)ptfe納米口罩布濾材表面除塵

ptfe納米口罩布是一種新型的高分子材料。

通過物理篩分作用，將病毒細菌等阻隔在口罩表層，再借助于聚四氟乙烯材料超強的自潤滑性特征，每一次的呼氣，都會反向將附著在口罩表層的顆粒物推回環(huán)境中去，如此反復，不依賴靜電吸附，真正達到了有效防護效果。

?ptfe納米口罩布是以聚四氟乙烯為原料，經過膨化拉伸后形成一種具有微孔性的薄膜，將此薄膜用特殊工藝覆合在各種織物和基材上，成為新型過濾材料，該膜孔徑?。?.05～0.45μm），分布均勻，孔隙率大，在保持空氣流通的同時，可以過濾包括細菌在內的所有塵埃顆粒，達到凈化且通風的目的。

?優(yōu)可發(fā)擁有一批專業(yè)的高分子研發(fā)團隊，專注技術研發(fā)；研發(fā)能力強大，研發(fā)以及改良技術研究，獲得有效的成果，擁有多項發(fā)明專利證書及實用型專利證書。